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CVD-SiC材料企业完成超亿元C轮融资

时间:2026-10-21   访问量:1008
近日,浙江六方半导体有限公司(以下简称“六方半导体”)完成超亿元C1轮股权融资,本轮由北京仓廪资本与诸暨产业投资集团有限公司联合出资。


六方半导体成立于2018年,专注于半导体新材料的研发与生产,业务覆盖半导体长晶、外延、刻蚀等关键工艺环节,为下游客户提供核心材料及精密零部件解决方案。


公司掌握CVD‑SiC碳化硅材料合成核心技术,依托该技术推出导流桶、单晶硅外延托盘、LED芯片外延托盘、SiC聚焦环等产品,覆盖半导体产业链多个环节。


在碳化硅长晶原料制备方面,六方半导体采用气相法制备高纯碳化硅粉料,具备高纯度、高密度、低氮含量等特性。目前公司产品性能可对标海外同类产品,已逐步导入国内主流长晶厂商。同时,基于CVD-SiC核心技术,公司不断拓展高纯SiC材料的应用领域,包括高纯SiC原料及薄膜在光学,芯片散热,异构集成等领域的应用。



六方半导体是甬江实验室热场材料创新中心的孵化企业,创始人何少龙同时担任该中心主任。实验室协助组建20余人研发团队,搭建热场材料制备与验证平台,并通过材料分析检测中心提供纯度检测、微观结构分析等服务,缩短产品验证周期,支撑其在SiC涂层原子级材料制备和LED芯片外延托盘国产替代上取得突破。实验室信息材料与微纳器件平台聚焦芯片异构集成与微纳光学,也与六方半导体向光学、芯片散热、异构集成延伸的布局形成呼应。


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